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          PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀

          PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀

          簡要描述:

          PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀是材料科學和發展的領域中Z廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用X射線束(一般會使鋁陽極或鎂陽極)作為入射源,照射在樣品表面導致讓光電子從原子的核心層被激發出。根據測得的光電子所發出的電子動能,再依照能量守恒定律就可以知道電子的結合能,從而也就可知道樣品表面是何物質。

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          PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀是材料科學和發展的領域中zui廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用X射線束(一般會使鋁陽極或鎂陽極)作為入射源,照射在樣品表面導致讓光電子從原子的核心層被激發出。根據測得的光電子所發出的電子動能,再依照能量守恒定律就可以知道電子的結合能,從而也就可知道樣品表面是何物質。
          PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀能提供高性能的微區光譜,化學成像,二次電子成像,其zui小的X射線束光柵掃描直徑約為10微米。X射線束的大小可以輕易的使用電腦控制在直徑10微米到400微米設定,從而達到的空間解釋度與zui高的靈敏度。VP-II 可以輕易的對不管是導體或非導體獲取化學態的成像 或是離子濺射的深度分析,樣品例子如催化劑,金屬和電子設備,玻璃和聚合物,甚至是生物材料和組織等等。
          維持了核心能力,包括掃描和聚焦 X 射線,的離子與電子雙中和系統,以及可以在極低電壓也可工作的高效能離子槍;另有可選項配置C60離子槍,提供了許多有機材料獨特而強大的濺射深度剖析能力;另外,一個完全自動化的五軸樣品操盤促進多個樣品的自動分析并提供Zalar旋轉“Zalar RotationTM”的能力,可配合氬氣離子束或可選項配置的C60來進行濺射深度剖析。zui后,全新的操作界面SMARTSOFT-XPS,提供多技術儀器控制一個易于使用的平臺。在數據解釋和操縱總結中,對VP-II 的性能有著明顯的提高。

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